총 193개
-
[실험설계] 코팅 시간과 회전 속도에 따른 Thin film 특성 분석2025.01.241. Ag NWs와 PEDOT:PSS 코팅 특성 분석 Ag NWs와 PEDOT:PSS를 각각 시간과 rpm을 달리하여 코팅한 뒤 물성을 측정하고, 최적조건으로 PEDOT:PSS/Ag NWs/PEDOT:PSS 3층 적층을 통해 기존 ITO 물성과 비교하였다. 코팅 시간과 rpm에 따른 두께, 투과도, 전기 저항 등의 특성 변화를 분석하였다. 2. Ag NWs와 PEDOT:PSS 3층 적층 구조 분석 PEDOT:PSS/Ag NWs/PEDOT:PSS 순서로 3층 적층 구조를 제작하고, 코팅 시간 및 rpm 변화에 따른 두께, 투과도, 전...2025.01.24
-
스핀 코팅 실험: 회전 속도와 시간에 따른 박막 두께 변화2025.11.151. 스핀 코팅(Spin Coating) 스핀 코팅은 평평한 기판에 균일한 박막을 증착하는 방법이다. 기판 중앙에 코팅 물질을 도포한 후 최대 10,000rpm의 속도로 회전시켜 원심력으로 코팅 물질을 퍼뜨린다. 회전 각속도가 높을수록 필름이 더 얇아지며, 필름 두께는 용액의 점도, 농도, 용매에 따라 달라진다. 박막 두께의 균일성이 장점이며 셀프 레벨링으로 인해 두께가 1% 이상 변하지 않는다. 스핀 코팅은 물질 도포, 회전, 경화의 3가지 과정으로 진행된다. 2. 유체동역학식 적용 코팅막의 두께는 액체의 점도, 회전테이블의 각속...2025.11.15
-
숭실대 신소재공학실험1) 14주차 고분자 디바이스 예비보고서2025.01.141. 4-point probe 측정 원리 4-point probe 방법은 동일선상에 놓은 4개의 핀을 시료의 표면에 접촉시켜 저항을 측정하고, 기하학적 보정계수를 적용하여 면저항을 측정하는 방식이다. Single configuration의 측정 원리는 핀 A, D에 전류(I_{AD})를 흘리고 핀 B, C에서 전압(V_{BC})을 측정하여 저항 R_a = V_{BC}/I_{AD}를 구하고, 면저항(R_S = k_a * R_a)을 구하는 방법이다. 여기서 k_a는 핀 간격에 대한 시료 크기 보정 인자, 핀 간격에 대한 시료의 두께 보...2025.01.14
-
광에너지변환 실험 (페로브스카이트 물질 중심으로)2025.04.301. 페로브스카이트 태양전지 페로브스카이트는 일반적으로 칼슘, 티타늄과 같은 산화물로 구성된 형태로 존재한다. 현재는 같은 결정 구조를 가진 모든 물질을 의미한다. 페로브스카이트 태양전지의 기본 구조는 투명전극 / 전자 수송층 / 페로브스카이트 층 / 정공 수송층 / 금속 전극으로 이루어져 있다. 페로브스카이트 태양전지는 N형이나 P형 반도체의 접합이 없고, 광 활성층인 페로브스카이트 층에 태양광이 닿게 되면 전자가 발생한다. 전자는 전자 수송층을 통해 전극을 따라 흘러 전류를 발생시킨다. 2. 광전효과 광자는 빛의 진동수와 비례하...2025.04.30
-
SEM을 이용한 polymer blend film topology2025.05.151. SEM (주사전자현미경) SEM은 주사전자현미경으로, 시료 표면의 형태와 구조를 관찰할 수 있는 장비입니다. 이 실험에서는 SEM을 이용하여 polymer blend film의 표면 형태와 구조를 분석하였습니다. 2. Polymer blend film Polymer blend film은 두 가지 이상의 고분자를 혼합하여 만든 박막 구조입니다. 이 실험에서는 polymer blend film의 상 분리 현상과 표면 형태를 관찰하였습니다. 3. 상 분리 (Phase separation) Polymer blend film에서는 서로...2025.05.15
-
[실험설계] 스핀코팅의 원리 및 AFM 분석2025.01.241. 스핀코팅 (Spin coating) 용액을 기판 위에 떨어트린 후 기판을 회전시켜 그 원심력으로 박막을 형성하는 것을 말한다. 저분자 물질의 증착법인 진공 증착법과 비교하여 진공 상태를 필요로 하지 않고 일반 대기상태의 상온에서 할 수 있다는 특징을 가지고 있다. 하지만 소자의 효율을 높이기 위해 다층막을 형성할 수 없고 원하는 부위만이 아닌 기판 전 영역에 걸쳐 박막이 형성되기 때문에 전극과의 접촉을 위해 전극 contact 부분을 직접 지워주어야 하는 번거로움이 있다. Spin coating 에 영향을 주는 요인으로는 용액...2025.01.24
-
Photolithography 결과보고서2025.05.051. Photolithography 이번 실험은 Photolithography을 통해 baking, Alignment, Exposure와 같은 개념을 알아보고 반도체 8대 공정을 이해하는 실험이었습니다. 실험을 하는 과정에서 기판을 세척하여 이물질을 제거해주는 것이 실험 결과에 지대한 영향을 미친다는 것을 확인할 수 있었으며, 스핀코터의 Rpm조건에 따라 기판에 새겨지는 마크의 차이점을 이해할 수 있었습니다. 이번 실험을 통해 PR에 빛을 비추어 패턴을 형성하는 과정인 Exposure(노광)에도 여러 가지 종류가 있다는 것을 학습할...2025.05.05
-
TiO2 박막 제조 및 광촉매 특성 실험2025.11.141. Doctor blading법을 이용한 TiO2 박막 제조 FTO 기판을 scotch tape로 고정한 후 Ti paste를 도포하고 슬라이드 글라스로 균일하게 펼치는 박막 제조 방법입니다. 형성된 박막의 두께는 scotch tape와 FTO 기판의 높이 차에 의해 결정되며, 열처리 과정을 거쳐 TiO2 박막이 됩니다. 박막 품질에 영향을 미치는 주요 변수는 paste의 점성도와 blade와 기판 간의 간격입니다. 2. Spin coating법을 이용한 TiO2 박막 형성 FTO 기판을 spin coater 위에 고정하고 TiO...2025.11.14
-
반도체 하드마스크 SOH 레포트2025.05.021. SOH (Spin-on Hardmasks) SOH는 패터닝 공정에서 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조재료입니다. gap을 채우고 평탄화를 강화하여 내에칭성을 강화해야하는 특성을 요구합니다. SOH는 반도체 회로 패턴 형성 시 기존의 CVD 방식이 아닌 spin coating 방식으로 막을 형성하는 미세 패턴 형성 재료로, 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현합니다. 2. PR MASK와 HARD MASK 비교 미세패턴을 구현하려면 PR MASK의 폭이 점점 줄어들어야 합니다. PR MASK의 가로에 대한 세로의 비율이 특정 값보다...2025.05.02
-
[이화여대 생명과학실험1 분반1등 A+ 레포트] ELISA2025.01.211. ELISA ELISA(enzyme-linked immunosorbent assay)는 antigen과 antibody 사이의 interaction을 통해 이들의 정량 혹은 정성적 분석을 하는 기법이다. 이때 사용되는 antibody에는 enzyme이 conjugation 되어 있는데, 해당 enzyme과 특정 substrate가 binding 할 시 발색 반응, 형광 반응, 발광 반응 등을 일으킨다. 이와 같은 반응이 일어난 정도를 측정함으로써 분석을 진행한다. ELISA에는 Direct ELISA, indirect ELISA...2025.01.21
1 / 20
