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카이스트 학생들의 반도체 설계 분야 최우수 논문상 수상2025.11.111. 반도체 설계 분야의 국제 경쟁력 카이스트 학생들이 반도체 설계 분야 국제학회에서 미국, 중국, 일본을 제치고 최우수 논문상을 수상했다. 반도체 설계는 한국이 상대적으로 뒤처진 분야였으나, 이번 수상은 향후 반도체를 이끌어갈 인재들이 만들어낸 값진 성과이다. 이는 한국의 반도체 산업 경쟁력 강화와 기술 혁신을 보여주는 중요한 사례이다. 2. 반도체 기술의 미래 방향 2030년대에는 이종 반도체 칩을 하나의 패키지로 통합하는 기술이 대세로 자리 잡을 것으로 예상된다. 반도체 설계는 고성능과 저전력을 목적으로 미세한 3차원 패키지에...2025.11.11
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IT 기업들의 자체 반도체 설계 현황2025.01.021. 구글의 자체 반도체 개발 구글은 2016년부터 자체 개발한 스마트폰 '픽셀' 시리즈를 출시하며 퀄컴의 제품을 사용하지 않고 자체 개발한 SoC를 탑재하고 있다. 구글은 데이터센터용 TPU와 인공지능 프로세서 개발에도 힘쓰고 있으며, 삼성전자와 협력하여 자체 칩을 생산하고 있다. 2. ARM의 설계자산 제공 ARM은 저전력 SoC CPU 설계에 특화된 기업으로, 애플, 퀄컴, 삼성전자 등 대부분의 AP 업체들이 ARM이 제공한 설계자산을 활용하여 제품을 만들고 있다. ARM 코어 생태계가 점점 복잡해지면서 ARM은 다양한 업체들...2025.01.02
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한국이 AI 반도체 분야에서도 글로벌 경쟁자를 키우고 있는 이유2025.05.041. AI 반도체 시장 확대 세계 반도체 설계 시장에서 미국 기업들의 지배력이 강했지만, 최근 인공지능 제품들이 잇달아 출시되면서 시장이 확대되면서 많은 기업들도 기회가 늘어났다. 한국 기업들은 후발 주자이지만, 우수한 인재들을 보유하고 있어 희망이 있다. 2. 한국 정부의 투자와 기술자립화 한국 정부는 한국 데이터 시장의 발전을 위해서 한국 반도체 설계 분야의 기술 개발을 위해 투자를 약속했다. 한국 반도체 생태계를 구축하기 위해서는 반도체 설계 분야의 개발이 최우선 과제이며, 이를 통해 메모리 반도체와 시스템 반도체의 생산까지 ...2025.05.04
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신문기사를 활용하여 생활 속의 생산관리 사례 찾기2025.01.041. 제품설계 제품설계의 역할은 고객의 욕구 및 니즈를 제품과 서비스에 대한 요구로 해석하는 것이다. 제품설계는 고객만족에 초점을 맞추며, 설계자는 고객이 원하는 니즈를 이해하여 제품과 서비스 설계에 반영해야 한다. 제품 및 서비스 설계가 중요한 이유는 제조 및 재고관리, 업무 표준절차화, 생산가동 기간 연장 및 자동화 기회 증대 등의 효과가 있기 때문이다. 2. 반도체 배치설계 국내 카이스트 테라랩 연구진은 인공지능을 활용하여 반도체 배치설계를 성공했다. 반도체의 배치설계는 날이 갈수록 복잡해지고 있으며, 데이터 처리속도 향상, ...2025.01.04
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CMOS 정리2025.11.131. CMOS 기술 CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)는 반도체 집적회로 제조 기술로, 상보형 금속산화막 반도체를 의미합니다. 낮은 전력 소비, 높은 집적도, 우수한 노이즈 특성을 특징으로 하며, 현대 마이크로프로세서, 메모리, 이미지 센서 등 다양한 전자기기에 광범위하게 적용되고 있는 핵심 반도체 기술입니다. 2. 반도체 공정 반도체 공정은 실리콘 웨이퍼 위에 회로를 형성하는 일련의 제조 과정입니다. CMOS 공정은 NMOS와 PMOS 트랜지스터를 동시에 제작하여 상보형 구조를 만들며...2025.11.13
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인하대학교 집적회로 설계 학습자료2025.11.131. 집적회로(IC) 설계 집적회로 설계는 반도체 칩 위에 수많은 전자 부품을 집적하여 복잡한 기능을 수행하도록 설계하는 공학 분야입니다. 회로 설계, 레이아웃, 검증 등의 단계를 거쳐 최종 제품이 완성되며, 현대 전자기기의 핵심 기술입니다. 2. 반도체 공정 반도체 공정은 실리콘 웨이퍼 위에 트랜지스터와 배선을 형성하는 제조 과정입니다. 포토리소그래피, 식각, 증착 등 다양한 공정 기술을 통해 미세한 패턴을 형성하며, 공정 기술의 발전이 칩의 성능과 집적도를 결정합니다. 3. 디지털 회로 설계 디지털 회로 설계는 논리 게이트와 플...2025.11.13
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반도체 소자 및 설계 - 62025.05.101. FET(NMOS, PMOS) 공정 FET(NMOS, PMOS) 공정에 대해 설명합니다. FET(NMOS, PMOS)의 기호와 동작 원리, 특히 NMOS와 PMOS의 차단 모드, 선형 모드, 포화 모드에 대해 자세히 설명하고 있습니다. 2. 래치업 효과 CMOS 기술에서 내재된 바이폴라 접합 트랜지스터로 인해 발생할 수 있는 래치업 효과에 대해 설명합니다. 래치업 효과는 Vdd와 GND 라인을 단락시켜 칩을 파괴하거나 시스템 오류를 일으킬 수 있습니다. 3. 래치업 효과 해결 방법 래치업 효과를 해결하기 위한 방법으로 산화물 트...2025.05.10
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자신이 근무하고 싶은 조직(기업)과 담당하고 싶은 업무(부서)에 대해서 분석하시오2025.01.241. 삼성전자 삼성전자는 한국을 대표하는 글로벌 전자 기업으로, 반도체, 스마트폰, 가전제품 등 다양한 분야에서 세계 시장을 선도하고 있다. 삼성전자는 혁신적인 기술력과 강력한 글로벌 네트워크를 바탕으로 지속적인 성장을 이어가고 있으며, 직원들에게 다양한 복지 혜택과 성장 기회를 제공하여 우수한 인재들이 모이는 기업으로 알려져 있다. 2. 삼성전자 조직 분석 삼성전자는 매트릭스 조직 구조를 채택하고 있으며, 각 사업 부문은 독립적인 사업 운영을 하고 있다. 이를 통해 각 부문은 빠르게 변화하는 시장 상황에 유연하게 대응할 수 있다....2025.01.24
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반도체 장치 및 설계 - 112025.05.101. PLA (Programmable Logic Array) PLA(Programmable Logic Array)의 레이아웃, 동작 원리, 구조에 대해 설명합니다. PLA 구현 절차로는 SOP(Sum of Products) 형태로 준비하고, 최소 SOP 형태로 줄이며, AND 매트릭스의 입력 연결과 OR 매트릭스의 입력 연결, 그리고 반전 매트릭스의 연결을 결정한 후 PLA를 프로그래밍하는 것을 설명합니다. 2. 유한 상태 기계 (Finite State Machine) 유한 상태 기계의 두 가지 유형인 Moore 상태 기계와 Mea...2025.05.10
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인하대학교 나노집적반도체소자 MOSCAPACITOR 설계 및 분석2025.01.091. MOS Capacitor 동작 원리 MOS Capacitor의 동작 원리를 이해하기 위해 Gate Material, Oxide Material, Semiconductor material 등에 대한 특성을 기술하였습니다. Gate Material로는 TiN을 선택하였고, Oxide Material로는 HfO2와 SiO2를 사용하였으며, Semiconductor material로는 p-type Si을 사용하였습니다. 각 material의 특성과 선택 이유를 자세히 설명하였습니다. 2. High-k 물질 도입에 대한 배경 Moore...2025.01.09
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