1. SOH (Spin-on Hardmasks) SOH는 패터닝 공정에서 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조재료입니다. gap을 채우고 평탄화를 강화하여 내에칭성을 강화해야하는 특성을 요구합니다. SOH는 반도체 회로 패턴 형성 시 기존의 CVD 방식이 아닌 spin coating 방식으로 막을 형성하는 미세 패턴 형성 재료로, 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현합니다. 2. PR MASK와 HARD MASK 비교 미세패턴을 구현하려면 PR MASK의 폭이 점점 줄어들어야 합니다. PR MASK의 가로에 대한 세로의 비율이 특정 값보다...

1. 무어의 법칙 무어의 법칙은 인텔의 공동 창업자인 고든 무어가 1965년에 발표한 예측으로, 집적회로의 밀도가 매년 대략 2배씩 증가한다는 것을 예측한 것입니다. 이 예측은 현재까지도 크게 벗어나지 않고 지속되어 왔으며, 집적회로 기술의 발전으로 트랜지스터의 크기가 작아지고 적은 면적에 더 많은 트랜지스터를 배치할 수 있게 되었습니다. 이러한 집적회로의 미세화는 전자제품의 성능 향상과 크기 감소 등 다양한 혜택을 제공했습니다. 2. 나노기술 나노기술은 나노미터 단위의 기술을 이용하여 소자를 만드는 기술로, 더욱 미세한 소자를 만...