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플라즈마 cvd 소독실 금오공대 반도체 중앙공급실 족보 수술실 물품 진공펌프 원리 ALD
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"저온플라즈마" 검색결과 881-900 / 1,028건

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    혈장분리 실험보고서
    원심분리한다.5각가의 혈액 당 1㎖ 씩의 혈장을 2개의 tube에 분리한다.6디뷰리저 -70℃에서 보관한다.(급속 냉각, 최저온)※ 채혈법1주사바늘의 사면을 주사기의 눈금에 맞춘다 ... 성분(cellular elements)과 액체성분인 혈장(plasma)으로 구분된다. 즉 상층액은 혈장이고 그 바로 밑 buffy coat층에는 백혈구와 혈소판으로 되어 있 ... omplex를 형성하여 응고를 방지시킨다.※혈장＆혈청·혈장 血漿 (plasma) - 혈액 속의 유형성분(적혈구 ·백혈구 ·혈소판)을 제외한 액체성분으로써 투명한 담황색인 중성의 액체이
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.07.05
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    탄소나노튜브
    결합되어 다발(bundle) 형태를 이루고 있는 것을 보여주는 TEM 사진이다.{2)플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor ... Deposition)플라즈마 CVD의 장점은 전기방전법이나 레이저증착법에 비해서 비교적 저온에서 탄소나노튜브를 합성할 수 있는 장점이 있다. 플라즈마 방식은 두 전극 사이에 인가되는 직류 또는 고 ... 합성에는 CH4, C2H2, H2 등이 반응가스로 사용된다.Ren 그룹에서 C2H2 가스와 NH3 가스를 혼합가스로 사용해서 660 이하의 온도에서 유리기판위에 DC 플라즈마방법
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    | 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.09
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    [자연과학](고급물리학 실험) Vacuum Evaporation
    라 공기 중의 수증기와 유기물질 등으로 더렵혀진다. 둘째는 적절한 환경 제공이다. 박막을 증착 할 경우 압력이 너무 낮으면 플라즈마가 발생할 수 없고 반대로 기압이 너무 높으면 방전 ... 의 단열성이라든지 저온의 진공상태에서 음식물을 건조시켜 향을 보존하는 경우와 같이 진공이 가진 다른 특성을 이용하는 경우를 말한다. 이러한 특성을 지니고 있는 진공은 정말 많은 용도
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    | 리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.04
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    [화학] 진공펌프 화학실험
    고진공 Ultrahigh Vacuum10-7Torr 이하원자핵 연구장치 ,전자 현미경 Plasma발생기, 물리 실험 장치터보 분자 펌프, 저온 냉각펌프, 흡착 펌프2. 진공펌프 ... ⑤ 다이아 후렘 펌프⑥ 루츠 펌프⑦ 수봉식 펌프⑧ 터보 분자 펌프⑨ 확산펌프⑩ 이젝타 펌프⑪ 흡착펌프⑬ 게터펌프⑭ 승화펌프⑮ 저온냉각펌프1. 진공도에 따른 진공 영역의 구분 및 ... 펌프고진공High Vacuum10-3Torr-10-7 Torr진공코팅, 진공 동결 건조, 진공 합금 ,신소재합금확산펌프, 터보 분자 펌프, 흡착펌프, 저온 냉각 펌프, 승화펌프초
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.21
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    탄소나노튜브
    벽 나노튜브들은 대부분 다발의 형태로 나타난다.3-3. 플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)CVD법은 열 CVD법 ... 튜브의 수직배향합성 가능할뿐만 아니라 저온합성, 고순도 합성, 대면적 기판합성이 가능하며 나아가서는 탄소나노튜브의 구조제어가 용이한 장점을 가지고 있다. 플라즈마 CVD의 장점 ... , DC 플라즈마 CVD법, RF 플라즈마 CVD법, 마이크로파 플라즈마 CVD법으로 구분할 수 있다. 이러한 CVD 방법은 기존의 전기방전법이나 레이저증착법에서는 불가능한 탄소나노
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.11.26
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    [공학]수소에너지
    , 무게 등) → 일부 상용화액체저장(저장용기, 극저온 연구 등) → 독일 상용화기체저장(상용화 되어 있음)물리적저장저장고순도 수소 제조(PSA, MH이용 등) → 선진국 기술확립수소 ... 정제고온열분해(이론정립, 촉매, 반응기) → 미국 개발단계플라즈마 개질(반응기, 플랜트 건설) → 미국 상용화수증기개질(상용화 되어 있음)화석연료로부터 수소제조바 이 오(광합성 직 ... ·간접, 협기발효, 과합성 발효 등)광 촉 매(금속산화물, 페롭스카으트, 제올라이트 등)저온열분해(산화물, ,유황화합물, 염화물, 불화물, 요드화물등)전기분해(SPE, 태양광, 풍력
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    | 리포트 | 18페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.10
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    [반도체] 단결정 성장 방법
    )PECVD의 개요1) 정의 : 박막 형성의 한 종류로서 기판 표면에 원료가 되는 가스를 공급하여 열 및 플라즈마를 이용하여 화학적 반응을 통한 박막을 형성하는 기법을 plasma ... 시키는 데 사용된다. 또한 비정질층의 이온주입후 재성장을 위해서는 SPE 방법이 사용되고 있다.PECVD(plasma enchanced chemical vapor deposition ... 화가 필요해짐. 이를 위해 성장시키는 부도체 막3)특징1 저온에서도 고온의 공정에서 얻을 수 있는 박막을 얻을 수 있다.
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.02
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    [무기재료실험]초전도체에 대하여
    로 대표적인 금속은 수은이 있다. Type I 물질들은 임계값들이 상당히 낮기때문에 응용하기에는 많은 어려움이 따르게 된다. Type II는 또다시 저온초전도체와 고온초전도체로 나눌수 ... 다. 혼합상태는 물리적으로 안정하여 임계값을 넘지않는 범위에서 계속적으로 존재가 가능하다.저온 초전도체는 임계온도가 낮아 붙여진 이름으로 Type I과 마찬가지로 액화헬륨에서 초전도체 ... 가 된다. 임계전류밀도는 높지만, 임계자기장이나 임계온도는 상당히 낮은 편이다. 이에 반해 고온초전도체는 액화질소를 냉매로 이용하여, 저온초전도체에 비해 경제적으로 유리한 입장이다
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.10.22
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    진공펌프의 종류와 용도
    용기 내부 표면에 부착되어 있는 분자 수량보다 많은 상태이다. 음식건조, 증류, 박막 증착,플라즈마 공정, 네온사인 등이 이영역의 진공대에서 운용되고 있다. 고진공은 10-3~10 ... 고 다음이 N2, O2, Ar등이다. 다음 단계는 냉온 흡착을 이용하느데 15K 영역에서 담당하여 He, H2, Ne 등 저온에서도 증기압이 높은 기체들의 운동에너지를 빼앗아 표면
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    | 리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.10
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    F E D (Field Emission Display)
    기상합성법이 있으며, 최근에는 탄소나노튜브를 수직배향으로 합성할 수 있는 CVD(chemical vapor deposition)도 크게 부각되고 있다. 현재 RF 플라즈마 CVD법 ... 의 수직배향합성이 가능할 뿐만 아니라 저온합성, 고순도합성, 대면적 기판합성이 가능하며, 구조제어가 용이하다는 장점을 가지고 있다 7장. 형광체7-1. 형광체란?여러 형태의 에너지(방사
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    | 리포트 | 25페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.13
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    [로켓]하이브리드 로켓 추진 실험
    :전기저항제트,아크제트―정전기 로켓:이온엔진,콜로이드―전자기 로켓:Stationary Plasma Thruster,MHD 등(2) 원자력 로켓나. 화학 로켓 추진방식(0) 액체 로켓 ... 연료와 산화제가 모두 액체상태로 연소실에서 기화되어 반응하여 열을 발생 추진력을 얻는다. 산화제는 주로 액체산소(LOX),연료는 액체수소가 사용된다. 이들은 모두 극저온 상태
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.21
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    [반도체]열CVD 와 플라즈마CVD
    )상압(760)PSG막BPSG막ㆍ연속형[저항가열]ㆍ회전형[저항가열]저압(~0.1)WSi2막ㆍ단엽형[램프가열]ㆍ콜드월형[램프가열]플라즈마CVD저온(~350)저압(~0.1)p-SiNp ... 을 형성하는 것이다. 반응온도는 100~200 범위로 광범위하게 사용되고 유입된 반응가스를 분해시키는데 열, RF전력에 의한 Plasma 에너지, 레이저 또는 자외선 광에너지 ... 되는 온도 영역도 분명히 존재한다. 또한 기상의 온도는 라디칼의 종류나 농도를 변화시키게 되어 막의 질에도 영향을 미친다. 플라즈마CVD, 광CVD에 있어서는 반응이 각각 전자 및 광
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    | 리포트 | 35페이지 | 4,000원 | 등록일 2003.01.10
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    포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리
    된다. 화학적 에칭이나 플라즈마 에칭은 그 때 감광제로부터 웨이퍼 표면의 장벽 물질에 패턴을 전사할 때 사용한다. 각 마스크 공정은 수많은 과정마다 정교하게 해야 한다. 그리고 직접회로 ... .princolevelcontrols.com)2.4 저온 건조(Soft Baking)- 감광제의 용제를 제거하고, 접합을 향상시켜 노광이나 현상 시 정확한 상의 전사 가 되도록 하는 공정2
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17
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    인공태양
    . 지난 1월11일 대전 대덕연구단지 핵융합연구센터에서 열린 초전도 핵융합 연구장치인‘KSTAR’저온용기 덮개를 장착하는 상량식이 열렸다. /핵융합연구센터제공태양열 발생 원리와 같아소량 ... 가 분리돼 각각 따로 움직인다. 기체, 액체, 고체와 다른 이른바 ‘제4의 상태’라는 ‘플라스마(plasma)’다. 초고온의 플라스마 상태에서는 수소와 같은 가벼운 원자핵들이 융합
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.22
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    수술실실습기록지 - 기구물품소독
    는 스포아(SPORE)균을 멸균 시키는데 충분하다.(4)Formaline 멸균의 장점과 단점①장점 : 저온 멸균 중 멸균시간이 짧다. 운용비용이 저렴하다. 가스 누출 위험이 적 ... (Diffusion -phase) -> 프라즈마 과정 (Plasma phase) -> 환기 과정 (Vent phase)(4)STERRAD의 장점과 단점①장점 : 멸균시간이 짧
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.02.27
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    [기계재료] PDP의 재료와 전망
    ..PAGE:1PDP의 재료와 전망-Plasma Display Panel-기계공학과 19991146 소민섭19991238 주상현..PAGE:2목 차1. 선정 동기2. What`s ... 경쟁시대를 맞이한 디스플레이 시장최신기술은 아니지만 성숙기를 맞이하고 있는 PDP..PAGE:42. What`s PDPPlasma Display Panel의 약자Plasma란?PDP ... 가 적을 것4. 방전의 안전성이 좋을 것5. 방전 전압이 가능한 한 낮을 것..PAGE:10격벽 재료요구 특성1. 저 가격화2. 저온 소성화3. 잔일막 형상 가능한 paste
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    | 리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.06
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    [분체공학] 분체입자의 제조방법
    을 가열반응기 중에 분무하는 방법과 연소 염이나 플라즈마 염중에 분무하는 방법이 있다. 온도가 아주 높으면 진구상 입자를 얻을 수 있다.동결건조법금속염 수용액을 저온 유기액체중 ... 〉고상법{물리적방법(PVD)화학적방법(CVD)기상법〔증발응축법〕저항가열법고주파유도법플라즈마법전자 beam법레이져법〔기상반응법〕전기로가열법연소(화학염)법플라즈마법레이져법액상법〔용매 ... 에 따라 저항가열법, 고주파유도법,플라즈마법, 전자빔법, 레이져빔법 등으로 분류.ii) CVD(chemical vapor desposition)- 기상 화학반응에 의해 입자 생성- 고체
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.28
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    [화학공학] 탄소나노튜브
    , 레이저증착합성기술, 열화학증착성장기술, 열분해증착기술, 마이크로파 플라즈마화학증착성장기술, RF 플라즈마화학증착성장기술, ECR 플라즈마화학증착성장기술 등이 탄소나노튜브의 주 ... 된 성장기술로 제안되고 있다. 응용분야에 따라 약간씩 특징이 다르지만 탄소나노튜브성장과 관련된 주요핵심기술요소는 탄소나노튜브 수직성장기술, 대량생산기술, 저온성장기술, 대면적성장기술 ... 보다도 가장 중요한 단계이다. FED는 유리를 기판으로 사용하기 때문에 저온성장기술이 필요하고, 아울러 고효율 전자방출을 위해서는 탄소나노튜브를 수직으로 성장시키거나 또는 수직으로 세우
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.13
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    AAS, ICP/MS를 위한 시료 전처리
    방출 분광법(ICP-AES, inductively coupled plasma - atomic emission spectrometry)에 의해 시료 중의 금속원소들을 분석하기 위해서 ... 회화법(dry ashing)건식회화법은 시료를 500℃의 저온에서 장시간 태워서 유기물을 분해하는 단순한 방법으로 융해하거나 습식회화시킬 수 없는 시료의 분해에 적합하다. 이 방법
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.02.02
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    [간호학] 중앙공급실실습내용
    다.·멸균시간이 14시간 이상이다.④소요시간 : 55 (멸균 2시간 기계적 정화 12시간) , 37 (멸균 5시간)(3)Plasma 소독기(Sterrad)①과산화수소가스 플라즈마 ... 소독기는 전자파와 과산화수소가 결합하여 가스 플라즈마를 만들어 서로 작용하여 미생물을 파괴한다.②증기와 산소를 만들므로 특수한 배수나 환기장치가 불필요하다.·H2O2를 소독원 ... 으로 이용한 저온 멸균기·소독시간 : 75 분- 105분·과산화수소 농도: 6mg/L③과정㈀Vacuum phage(진공상태)챔버 속의 공기를 제거하기 위해 깊은 진공을 이끌어낸다.(8
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.02.07
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2025년 11월 30일 일요일
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