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플라즈마 cvd 소독실 금오공대 반도체 중앙공급실 족보 수술실 물품 진공펌프 원리 ALD
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"저온플라즈마" 검색결과 801-820 / 1,028건

  • 자료 표지
    기계재료
    CsCl의 결정구조그림 3-7 NaCl의 결정구조- Al2O3, TiO2, ZrO2, BaTiO3 and Pb(Zr0.3Ti0.7)O3가 최근 보고된 방전플라즈마 소결에 의해 합성 ... 으로 방전플라즈마 법이 적용되다가, 최근에는 나노기술이 주목받으면서 Al2O3의 소결밀도를 높이고, 나노크기의 입자를 가지는 소결체를 얻는 방법으로 많이 연구되고 있다. TiO2 ... 의 분말과 세라믹은 광촉매특성의 향상을 위한 방법으로 방전플라즈마 소결법이 적용되고 있다.- 산화물이 주종을 이루고 있는 세라믹스는 일반적으로 전기를 잘 통하지 않는 성질 특 전기
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 35페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.06.04
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  • 자료 표지
    PVD, CVD 그리고 Nucleation
    에 대해 실리콘 질화 막이 훨씬효과적인 장벽을 만들기 때문이다.1) CVD에서의 Plasma의 사용플라즈마 몰리나 플라즈마 화학은 고압영역으로 부터 글로우 방전, 불꽃방전, 태양 ... 의 층간 절연 막 내지 보호막 공정으로 저온에 의한 공정의Plasma CVD 기법이 각광을 받고있다.2.3. LPCVD2.3.1. LPCVD 장비의 설비 구성APCVD의 수평 대기압 ... 고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UVor LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여 열분해를 일으켜(Si 기판과 공급된 O2와 반응하여 산화막을 형성 시키는 Diffusion
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.23
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  • 자료 표지
    [전자공학] 박막형성법과 박막특성
    류..PAGE:13따라서 기존의 CVD가 열에너지를 반응에 필요한 에너지원으로 이용하고있는 반면에 PECVD는 플라즈마를 이용함으로서 그 만큼 열에너지를 줄일 수 있게 되어 저온 ... ∼500×10-4mbar)에서 큰 전압(300∼5000V)을 걸어줄때 diode plasma 형성→ 가스 원자들의 적은 양이 이온화 되고, 이온이 가속되어 cathode 덮개의 전압 ... 의 종류..PAGE:7Magnetron sputtering강한 자기장을 이용하여 플라즈마의 대부분을 target 표면 근처에 묶게 된다. - 방출된2차 전자의 궤도를 target 표면
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18
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  • 자료 표지
    VOC , 휘발성유기화합물
    ), 자외선 분해기술 및 광촉매 분해기술 그리고 많은 연구가 진행되고 있는 코로나 방전법, 플라즈마 에너지 이용기술 등이 있다. 회수기술로는 흡착기술, 흡수기술, 응축기술 등이 널리 ... 을 줄이면서 많은 양의 열을 회수하기 위하여 열교환기를 부착한다. 고온의 소각로 연소가스로부터 저온의 fume gas 와 shell and tube 형태의 열교환기에서 간접접촉
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 21페이지 | 3,500원 | 등록일 2009.07.25 | 수정일 2016.01.27
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  • 자료 표지
    간호학, 수술간호
    )를 사용하며 플라즈마 형태의 과산화수소수로 42-45℃의 저온으로 75분 안에 멸균함2) 적용 : 액체, 스펀지, 거즈, 종이, 나무, 부직포, oil 등은 제외3) 주의 : 세척 후
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.08
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  • 자료 표지
    적절한 소독제의 선택과 사용(수술실소독)
    를 같이 사용(1) 소독(Disinfection): 생물체가 아닌 환경으로부터 세균의 아포를 제외한?미생물을 제거하는 과정, 일반적으로 액체화학제나 습식 저온 살균제의 의해 이루어 짐 ... 적 과정을 통하여 모든 미생물을 완전하게 제거하고 파괴시키는 것, 고압증기멸균법, 가스멸균법, 건열멸균법, H2O2 Plasma 멸균법과 액체화학제 등을 이용(3) 살균제
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.08
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  • 자료 표지
    [생활과 화학]형상기억합금(nitinol)
    과 연구소의 두문자를 연결하여 니티놀(NITINOL)이라고 명명했다.이 후 많은 연구자들에 의해 이것의 마르텐사이트변태 및 형상기억특성, 고온 및 저온에서의 결정구조에 대해 연구 ... 용해, 플라즈마 아크용해등이 사용된다.? 열간, 냉간가공 : Ti-Ni합금에서의 인장특성을 살펴보면 300℃이하에서는 온도의 상승에 따라서 인장강도는 증가하지만 400℃를 초과 ... 게 중온처리, 저온처리, 시효처리가 있다. 중온처리는 만들어진 스프링을 지그에 묶어 400-500℃로 가열하는 것으로 제품크기에 따라 약 10-100분 범위이다. 저온처리는 처음에 합금
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.07.26
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  • 자료 표지
    반도체 제조공정
    반도체 공정과는 구별된다. 인입된 반응가스를 분해하는 데는 열, RF 전력에 의한 플라즈마 에너지, 레이져 또는 자외선의 광 에너지가 이용된다. 이러한 에너지에 의하여 기판이 가열 ... 을 가열시켜 가스를 열적으로 활성화시킨다.2. 저온 화학 기상 증착(LTCVD)저온 화학 기상 증착은 수소화합물 가스를 산화시켜 유리질 산화막을 만들기 위해 사용되며 500˚C ... 다.◆ LPCVD의 장점1. 동일 웨이퍼나 웨이퍼간의 두께 및 저항의 균일성이 우수하다.2. 저온 저압 공정으로 반응로와 웨이퍼부터의 자동 도핑의 감소가 가능하다. 에피 성장 의 경우도 동일
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.12
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  • 자료 표지
    [재료공학]ZnO 형광체
    자유 엑시톤(free-exciton), 전자-정공쌍 플라즈마(electron-hole plasma, EHP), 그리고 엑시톤간(exciton-exciton)의 충돌에 기인한다고 보 ... 된다. 이러한 엑시톤은 모두 저온 PL 측정에서만 관찰되는 것이며, 상온에서는 여러 발광 피크들이 합쳐진 상태로 흔히 말하는 NBE 발광으로 관찰된다. ZnO에서 자유 엑시톤, 도너 ... 및 억셉터에 구속된 발광 에너지는 Table. 3에 나타내었다.Table. 3 저온 PL에서의 ZnO 발광 원인별 영역Ⅳ. ZnO의 발광 메카니즘ZnO는 자연적인 결함으로 인해
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    | 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.03
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  • 자료 표지
    소결방법의 장단점
    오븐이나 furnace, laser, plasma, electron beam과는 다르게 MICROWAVE 복사는 재료의 내부를 투과하여서 동시에 재료를 가열시킴으로 균일한 가열 ... 에 비해 낮으므로 보다 저온에서 빠른 속도의 치밀화가 일어나 고밀도의 소결체를 얻을 수 있다고 보고되었으며 열원이 재료의 내부에 발생하기 때문에 시편내부에는 일반적인 소결의 반대
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.07
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  • 자료 표지
    Sputtering 방법을 통해 증착한 Cu-Ti 박막의 후 열처리 온도에 따른 Cu-Silicide 형성과 비저항의 미치는 영향과 특성 평가 실험
    와 같은 macro-particle이 형성되지 않는다.? 저온 증착이 가능? 전자의 입사에 의한 기판의 손상? 에너지의 비효율성? 높은 working pressure ⇒ 박막의 순도 ... 에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다.? 장점- Plasma의 발생 및 oscillating power source를 사용하므로 거의 모든
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.25
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  • 자료 표지
    [반도체] VLSI 대규모 집적 회로 생산
    Etching ( 건식식각):뜻 : 이온충격의 물리적 방법이나. 플라즈마 속에서 화학작용으로 에칭을 함.{특징 : 정확도가 뛰어남.Dry Etching (Plasma)보호막을 선택 ... ) Epitaxy 공정뜻: 단결정 실리콘 웨이퍼 표면에 두께 0.5~20um 의 고순도 결정층 형성원인: 저온성장 가능으로 불순물 혼입 감소결정의 완전성이 뛰어남공법 : LPE ... 용도 : 보다 정밀한 불순물 주입장점 : *저농도 불순물 주입 가능*불순물 이온두께를10nm~1000nm로 정확히 조절*여러 종류의 얇은 막을 마스크로 사용 가능원리 : *플라즈마
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.24
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  • 자료 표지
    이온크로마토 그라피
    유도결합플라스마 발광광도법(Inductively Coupled Plasma (ICP) Emission Spectroscopy)▲ 원리 및 적용범위시료를 고주파유도코일에 의하 ... ∼15 ㎜, 높이 약 30 ㎜)로 생성되지만 돈도, 전자 밀도가 가장 높은 영역은 중심축보다 약간 바깥쪽(2∼4 ㎜)에 위치한다. 이와 같은 ICP 의 구조는 중심에 저온, 저전자
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.31
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  • 자료 표지
    [열역학]연료전지
    분해법(Direct Cracking), 플라즈마 촉매개질법(Plasma Catalytic Reforming), 흡착부과반응개질법(Sorption Enhanced reaction Pro높다. ... 도 정도 이하의 것을 저온형, 그 이상의 것을 고온형이라고 한다. 또, 발전효율의 향상을 꾀한 것이나, 귀금속 촉매를 사용하지 않는 고온형의 용융탄산염(溶融炭酸鹽) 연료전지를 제2 ... 되는 반응열을 이용하면 효율을 70%이상 높일 수 있다.인산은 저온 연료전지를 위한 전해질로써 필요한 수명을 가진 그런 유일한 물질로 알려져 있다. 이것이 낮은 이온 도전율을 가지
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.21
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  • 자료 표지
    [신소재] 카본나노튜브와 플러렌에 대하여
    파 플라즈마 CVD법으로 구분할 수 있다. 이러한 CVD방법은 기존의 전기방전법이나 레이저 증착법에서는 불가능한 카본나노튜브의 수직배향합성 가능할 뿐만 아니라 저온합성, 고 순도 ... 으로 합성할 수 있는 CVD법(chemical vapor deposition)이 크게 부각되고 있다. CVD법은 열 CVD법, DC 플라즈마 CVD법, RF 플라즈마 CVD법, 마이크로 ... 합성, 대면적 기판합성이 가능하며 나아가서는 카본나노튜브의 구조제어가 용이한 장점을 가지고 있다. 카본나노튜브를 다양한 분야에 응용하기 위해서는 저온합성기술, 수직배향기술, 대면
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.09.10
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  • 자료 표지
    [플라스마 소각] 열분해 용융 자료
    플라즈마1High-Temperature Equilibrium Plasma--저온플라즈마2Low-TemperatureNon-equilibrium Plasma열플라즈마3Thermal ... PlasmaHigh pressure : >10KPa아크 플라즈마Electrode plasmaRF-고주파Elctrodeless plasma냉플라즈마4Cold PlasmaLow pressure : ... . 용융21) 용융의 정의22) 용융의 종류23. 열분해 용융의 특징 및 장점3Ⅱ. 플라즈마의 기초 이론41. 플라즈마의 생성원리42. 플라즈마의 분류53. 플라즈마 토치의 종류61
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    | 리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.17
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  • 자료 표지
    [플라즈마] PDP 에서 사용된 플라즈마
    들이 플라즈마 상태라고 하면 이해하기가 쉬울 것이다.이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch) 및 ... debye length이다.따라서 플라즈마는 debye length보다 큰 공간범위나 plasma oscillation의 주기 보다 큰 시간범위에서 측정하면 중성상태이고 그 보다 작 ... 하는 건식 처리기술은 환경분야에서도 플라즈마가 중요히 쓰여짐을 보여준다.6. Plasma display panel(PDP)최근에는 차세대 고선명 텔레비젼에서 요구되는 대화면(50
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    | 리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.16
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    [재료공학]디스플레이의 발전 방향
    DISPLAY의 발전방향1. 디스플레이의 종류(발광형과 수광형으로 분류)가. 발광형·CRT(Cathod Ray Tube) - 음극선관(브라운관) 디스플레이·PDP(Plasma ... Display Panel) - 플라즈마 디스플레이·OLED(Organic Light Emitting Diode) - 유기발광 디스플레이·LED(Light Emitting Diode ... )을 필요로 하고 표시 콘트라스트가 보는 방향에 의존하는 경우가 많아서 시각에 제약을 받는다. 응답시간이 주위 온도에 의존하기 때문에 저온동작(-30∼-40℃)에 어 려움이 있
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.06.05
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  • 자료 표지
    DPF란?
    이 사용된다. 또한 플라즈마장치를 이용하는 PM 및 NOx 동시저감장치 개발연구도 매우 활발하여 GM의 부품회사인 델파이, 영국의 AEA에서 소형자동차용으로, 그리고 EEC ... 가 매연의 발화온도를 낮추어 배기자체열에 의한 연소를 한다. 시스템이 단순하고 저가이며 장착이 용이하고 저온에서의 촉매효과가 낮으며 황성분에 의한 열화등 문제점이다. Degussa ... 하여 반대방향으로 불어 털어내는 방법, 플라즈마방식, 필터에의 촉매 분무방식등이 있다.1) MLF 필터(Multi Layered Filter)①고속 및 고온배기 유동에서도 고효율 포집
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.27
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  • 자료 표지
    [공학]FED의 에미터
    부분 600℃이상의 온도가 요구된다. 그러나 PECVD는 source gas의 분해를 플라즈마를 이용함으로써 비교적 낮은 온도에서 gas를 분해시킴으로써 박막 증착을 할 수 있 ... 성이 가증하고 저온합성, 고순도 합성, 대면 적 기판합성이 가능하며, 탄소나노튜브의 구조제어가 용이한 장점을 가지고 있음. 고온의 로안에 탄소 성분의 가스를 흘려주면서 탄소 나노
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    | 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.24
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2025년 11월 30일 일요일
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