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"저온플라즈마" 검색결과 721-740 / 1,028건

  • [공학]기초 반도체 공정
    석영이 음극표적재료로 사용 plasma deposition 250 ℃ T 600 ℃ : SiH4 ~400 ℃ SiO2 for passivation doped SiO2 by B2H6 ... and applications◇ Ion Implant의 특징 불순물 주입량 조절 분포모양 조절 측면 퍼짐 감소 저온공정 균일성 간편한 불순물 공급원 . . . ◎ 불순물 주입량 조절 ... plasma can be produced from a gas if enough energy is added to cause the electrically neutral atoms of
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    | 리포트 | 161페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.30
  • [유통전략론] 소매업체의 날씨 마케팅 보고서
    의 안정, 낙천적이고 적극적인 성향, 소비욕구 활성화극단적 고온불쾌지수 상승, 소비심리 위축, 소비자 불만 상승극단적 저온행동의 제약, 소비심리 위축3. 일기 변화에 따른 상품의 매출 ... 다고 한다. 이어 황사기간 동안 특집 방송을 계속해서 편성했다고 한다.LG e-shop도 ‘황사를 이기고 환절기를 건강하게’라는 기획매장을 마련해 샤프 플라즈마 공기청정기(59만8000
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.03.07
  • [반도체]탄소나노튜브(carbon nano tube)에 대한 발표 ppt 자료
    법에 비해 고수율, 고품질의 단일벽 탄소나노튜브의 합성이 가능...PAGE:8제 조 방 법플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor ... Deposition)- 플라즈마 CVD는 열 CVD에 비해서 저온에서 탄소나노튜브를 합성시킬 수 있는 장점을 가짐.- 양 전극에 인가되는 고주파 전원에 의하여 챔버 또는 반응로 내에 글
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    | 리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.08.25
  • 반도체, 진공펌프, TFT
    더 있으니, '제 4의 물질상태'라 일컬어지는 플라즈마(Plasma)이다.플라즈마는 기체의 특별한 상태로 볼 수도 있으므로 네 가지의 물질 상태 중에서 가장 적을 것이라고 생각 ... 에는 차세대 고선명 텔레비전에서 요구되는 대화면(50인치) 평판 표시장치의 하나인 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel)에 대한 연구가 수해오디고 있고, 장기 ... 를 외부로부터 반응실로 주입하여 이루어지기 때문에, CVD는 다른 반도체 공정과는 구별된다. 인입된 반응가스를 분해하는 데는 열, RF 전력에 의한 플라즈마 에너지, 레이져 또는
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    | 리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.04.01
  • 스템플러
    은 내 피로성, 강인성, 내마모성 등 다른 재료에서는 볼 수 없는 우 수한 특징을 지니고 있으며 금속을 대신하는 플라스틱- 기계적 특성 : 고온이나 저온에서 우수한 stress와 s ... 의 절단(material control)- 프라즈마 커팅(Plasma Cutting), 워터 제트(Water Jet Cutting)▶ 관재, 봉재, 압출물의 절단 ... 방법- 열처리후의 경도 : 소입경도 (HRC 63 이상 HV700): 저온TEMPERING (200℃ 이하온도) 후 (HRC 58~63): TEMPERING온도가 올라감에 따라 경도.
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    | 리포트 | 38페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.09.12
  • cvd 와 pvd의 특징과 비교
    실리콘 질화 막이 훨씬효과적인 장벽을 만들기 때문이다.1) CVD에서의 Plasma의 사용플라즈마 몰리나 플라즈마 화학은 고압영역으로 부터 글로우 방전, 불꽃방전,태양코로나등 ... 다. CVDVD , plasma-enhanced CVD, photochemical CVD, laser-induced CVD, and electron-beam assisted CVD로 분류 ... 될 수 있다.2. CVD의 개요* CVD(화학 기상 증착법)공정의 개요외부와 차단된 반응실 안에 Substate(기판)를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV or
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.14
  • [재료공학] cvd(Chemical vapor deposition)
    : a) 성막 온도와 원료 가스에 제약이 있다.b) 저온에서 형성한 막의 치밀성이 플라즈마 CVD법으로 형성한 막보다도 떨어 진다.상압 CVD : 박막 형성시의 압력이 대기압감압 ... 하는 것을 열 CVD라고 한다.○열 CVD의 특징장점: a) 원료 가스나 반응계(장치, 공급ㆍ배기)ㆍ조건의 설정에 따라 고순도의 박막이 형성된다.b) 피복성이 좋다.c) 플라즈마 CVD ... 와 비교하여 장치 구성이 간단하다.d) 플라즈마(이온)를 사용하지 않기 때문에 고속 입자의 충돌로 인한 손상이 없다.e) 조건에 따라 선택 성장이 가능한 점 등을 들 수 있다.단점
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.13
  • [공학]열처리 종류 및 표면경화처리법 설명
    표면경화 시키는 처리4) 플라즈마침붕(Plasma Boriding)처리 부품을 음극에 그리고 노벽을 양극의 직류 전원에 연결된 진공로에서 저압으로 유지된 염화보론과 수소의 혼합가스 ... 는 가스 분위기 속에서 처리 부품을 침질탄화 온도에서 2 ~ 5 시간 동안 유지한 다음 퀜칭하여 표면경화 시키는 처리5) 플라즈마 침질탄화(Plasma Nitrocarburizing ... 는 재료에 쓰인다.고온에서 급랭(急冷)하여 보통이면 일어날 변화를 일부 또는 전부 저지하여 필요한 특성을 끌어내는 담금질, 한 번 담금질한 후 비교적 저온에서 가열하여 담금질로써 저지
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    | 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.05 | 수정일 2018.05.28
  • Fulleren & CNT 발표자료(나노 신소재)
    튜브를 합성하는 방법 - 대량 생산 / Scale up에 용이 - 대량생산체제를 확보한 외국기업(일본)들이 이용● 플라즈마 화학 기상 증착법 (Plasma Enhanced ... Chemical Vapor Deposition) - 플라즈마 CVD는 열 CVD에 비해서 저온에서 탄소 나노튜브를 합성가능한 장점 - 성장온도가 낮아서 구조가 안정적이지 못 함 ● 레이저
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    | 리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.08.24
  • [박막공학]진공펌프의 종류와 진공게이지
    펌프진공코팅, 진공 동결건조, 진공합금, 신소재 합금10-3Torr-10-7Torr고진공터보분자펌프, 흡착 펌프, 저온 냉각 펌프원자핵 연구 장치, 전자 현미경, 플라즈마 발생기 ... 는 인위적으로 진공을 만드는데 사용 되고 있으며 진공을 만드는 정도와 방법에 따라 여러 종류의 진공 펌프가 존재한다.진공 펌프의 종류확산 펌프, 터보분자펌프, 흡착 펌프, 저온 냉각
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    | 리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.21
  • 전기화학 발표
    과 마이너스 전하밀도가 동등한 전기적인 중성의 기체상태를 말한다.① 고온 플라즈마-> 플라즈마 용접, 절단 : Plasma의 고온을 이용한 재료의 가공.-> Plasma 용사 : 고 ... 융점 분말을 Plasma로 녹여 고체 표면위에 coating시켜 내열, 내식, 내마모성등을 높임.-> 초미립자 제조 : 열플라즈마의 고온,고활성을 이용하여 기상반응으로 합성된 입자 ... 및 유리화시킴-> 플라즈마 소결 : 난소결성의 세라믹 등을 단시간에 치밀화시킴.-> 플라즈마 야금 : 플라즈마의 고온, 활성을 이용하여 금속을 정련, 제② 저온 플라즈마-> Dry
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.06.10
  • [합금]알루미늄합금의 고속초소성(高速超塑性)가공
    플라즈마소결에 의해 저온(600~700K(327~427℃))에서 급냉응고분말의 예비성형이 가능하게 되면, 1μm이하의 초미세조직구조를 갖는 예비성형체(pre-form)를 얻을 수 ... 예비성형(pre-Form성형)급냉응고 분말이 가지는 초미세조직구조를 유지해가면서 피가공재로서의 필요한 강도를 확보한다. 결정조직의 성장이 진행되지 않는 저온, 단시간 내에 급냉응고 ... 속도의 유지가 가능하다.[그림 6]~[그림 7]은 평균입자경 400μm의 Al-12%Si(ADC12상당)의 분말을 방전플라즈마소결에 의하여 예비성형하고, 이 예비성형체(pre
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.02.07
  • [철강][금속][금속 부식][도금][도금 원리][도금 종류][도금 과정][전기도금][화학도금][건식도금]철강의 활용과 금속의 부식, 도금의 원리, 도금의 종류, 도금의 과정, 전기도금, 화학도금, 건식도금 분석
    ) CVD의 원리CVD 법은 저온에서 기화한 휘발성의 금속염(氣相, vapour)와 고온에 가열된 물체(도금 할 고체의 물체)와의 접촉으로 고온분해, 고온반응에 의해, 글로방전분해 ... (放電分解), 또는 레저 등의 光에너지를 조사(照射)시켜서 저온에서 물체표면에 금속 도는 금속화합물층을 석출시키는 방법을 말한다.2) CVD의 특징CVD의 최대의 특징은 처리온도 ... (plasma, 이온과 전자가 공존하여 전체적으로 중성을 유지하고 있는 상태)에는 항상 나타나기 마련이다. 음극스피터링은 이 플라스마 속의 이온(Ar+ 같은)을 음극의 음전기의 힘
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    | 리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.07.15
  • 박막 증착 방법, 종류
    1. 박막증착 방법PVD(physical vapor deposition)법옛날부터 박막형성에 이용되어 온 방법으로서, 다른 방법으로는 할 수 없는 저온처리에 의해서 비교적 간단히 ... 다.최근에 이온이 갖는 에너지를 효과적으로 사용하여 저온영역에서 우수한 피막을 형성할 수 있는 것으로서, 이온플레이팅, 이온주입, 이온빔믹싱 등의 방법이 주목을 받고 있다.(1) 진공 ... 의 순도가 높고 균일하다- 증착률이 낮고, 높은 온도가 단점PECVD( Plasma Enhanced CVD )- 0.1 - 5.0 torr, 200 C - 500 C , 50
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.14
  • [공학기술]박막
    throughput.Single wafer다양한(신재료) 재료 대응 가능. 장비구조 복잡(LDS등).MOCVD증착속도 빠름. PVD + CVD 저온화 가능.PECVD(Plasma ... 속도와 높은 균일성의 특징이 있으며, 폴리 실리콘에 사용LPCVDLPCVD 구조PECVD 시스템의 특징 Plasma-enhanced CVD 플라즈마 원리를 이용하여 화학 기상 ... 가열기전극웨이퍼전극RF 동력 입력가스 배출구, 펌프가스 주입구 (SiH4, O2)플라즈마PECVD 구조MOCVD 시스템의 특징 Metal Organic CVD. Meta
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    | 리포트 | 38페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.05.23
  • [생물학]세균의 분류 및 분류조건, 분류법
    . Tenericutes미아코플라즈마라 부르는 세포벽이 없는 원핵생물이다.4) Division Ⅳ. Mendosicutes대부분이 어떤 형의 세포벽을 가지고 있지만, muramic ... 가 달라진다. 왜냐하면 세균의 증식에는 효소 등의 작용에 의해 대사가 일어나며 이들 작용은 적정온도에서 최대 효율을 나타내기 때문이다.세균은 생육적온에 의해 저온성 세균
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    | 리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.06.16
  • [기기분석]유도 결합 플라즈마 분광법 Inductively Coupled Plasma(ICP)
    ..PAGE:1유도결합플라스마 분광법Inductively Coupled Plasma(ICP)Emission speectroscopy..PAGE:2..PAGE:31. 원리 및 적용 ... ( 2~4 ㎜ )에 위치한다. 이와 같은 ICP의 구조는 중심에 저온, 저전자 밀도의 영역이 형성되어 도너츠 형태로 되는데 이 도너츠 모양의 구조가 ICP의 특징이다...PAGE:8 ... 여개)의 분석가능,특히 P.B.W.Zr,V회토류 원소와 같은 내화물원소의 미량 분석가능...PAGE:9불황성 기체인 알곤 플라즈마를 사용하므로 화학적 방해가 적음.원자 흡광법
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    | 리포트 | 38페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.05.21
  • 진공의 기초
    Vacuum 10 -7 Torr 이하 원자핵 연구장치 , 전자 현미경 Plasma 발생기 , 물리 실험 장치 터보 분자 펌프 , 저온 냉각펌프 , 흡착 펌프진공을 위한 부품들 12 진공 ... , 이중유리창 ) 입자의 장거리 비행가능 (TV 모니터 , 입자가속기 ) 증발과 승화작용 안정된 플라즈마를 유지 (TV 모니터 ) 산화와 부패 등의 생화학 반응 억제 ( 램프 ... -7 Torr 진공코팅 , 진공 동결 건조 , 진공 합금 , 신소재합금 확산펌프 , 터보 분자 펌프 , 흡착펌프 , 저온 냉각 펌프 , 승화펌프 초고진공 Ultrahigh
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    | 리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.29
  • [공학]전자재료
    ), >; 104 K(Te : electron temperature, Th : heavy particle temperature)->일반적으로 대기압 또는 고압에서 활용저온플라즈마(비평형플라즈마) ... )아크, 열, 전자빔 등의 에너지에 의해 진공분위기에서 금속물질을 증발시키고, 플라즈마, 이온빔 등의 에너지로 활성화시킨 후, 기능성 소지에 원하는 조성 및 결정구조로 요구도에 맞 ... 과 충격이 큰 부품은 밀착력을 올리기 위해 플라즈마 클리닝과 이온충격공정을 반드시 하여야 한다. 클리닝과 표면반응을 얼마나 효과적으로 하느냐에 따라 금형과 공구의 성능과 수명
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    | 리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10 | 수정일 2024.01.14
  • 조직구조 관찰과 경도측정
    적인 방법은 화학부식 방법이며 이외에도 molten salt방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법 등이 있다. 이 실험에서는 에탄올 50mL 와 질산 1mL의 혼합물을 사용 ... 를 조대화시켜 강을 여리게 만들며, 특히 상온 E또는 그 이하의 저온에 있어서는 특히 현저해 진다.* 고온메짐성: 강은 구리 (Cu)의 함유량이 0.2% 이상이 되면 고온에 있
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    | 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.11.17
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- 유아에게 적합한 문학작품의 기준과 특성
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- 작별인사 독후감