"저온플라즈마"의 검색결과 입니다.

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"저온플라즈마" 검색결과 701-720 / 1,028건

[섬유가공]섬유를 가공하는 방법

플라즈마 처리실의 직물도입구에 인접하여 설치된 감압처리실을 통과하는 직물을 가압하는 roller를배치하는 장치{플라즈마 가공의 예◈ 가공효과: 저온 플라즈마 분위기 중에서 해리 ... 된 전자, 이온, radical 외에 광범위한 영역으로부터의광(光)이 작용하여 이것으로부터 각종 반응을 유발.♣ 플라즈마 반응1 무기가스 플라즈마에 의한 표면처리(plasma ... etching)2 유기계 단량체 가스에 의한 플라즈마 중합3 플라즈마 graft 중합4 플라즈마 개시중합☞ 일반적으로 저온 플라즈마 가공이라고 불리는 섬유의 개질 기술은무기가스 플라즈마

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 71페이지 | 2,500원 | 등록일 2005.11.28

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[공학]플라즈마

■ 플라즈마 과학의 개요플라스마 과학은 1808년 H. Davy의 직류 아아크방전 개발과 1830년대 M. Faraday 등의 고전압 아크방전 튜브 개발에서 시작되었다고 볼 수 ... 규명했다. 이 때의 플라스마는 저온에 있는 고체물질에 열을 가하면 녹아 액체로 변하고, 증발하여 가스로 변화되며, 열을 더 증가하면 각 원자들은 전자들과 양이온들로 깨져 물질의 제 ... 공 이상의 가속이 필요하며 또 실제로 플라즈마가 유지되기 위해서는 적당한 충돌 횟수가 보장되어야만 한다. 따라서 압력(압력이 높으면 충돌할 수 있는 입자의 수도 많음을 의미

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.18

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박막의증착

을 증착하는 공정이다. 따라서 기존의 CVD가 열에너지를 반응에 필요한 에너지원으로 이용하고 있는 반면에 PECVD는 플라즈마를 이용함으로서 그만큼 열에너지를 줄일수 있게 되어 저온 ... 게 확장시켜왔다. CVD 공정은 여러가지 방법으로 분류될 수 있는데, 먼저 사용되는 반응의 활성화 에너지원에 따라 thermally-activated CVD , plasma ... 의 문제를 일으킨다. 이러한 단점을 극복하기 위한 방법으로 PECVD 공정을 도입하였다. PECVD는 chemical vapor를 진공상태의 쳄버에 주입하고, 전장을 형성하여 플라즈마

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| 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26

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포토리소그라피(Photolithography)

포토리소그라피20001895 박시형목차기판 및 표면처리 PR (Photo Resister) 저온건조(Soft Bake) 노광(Expose Pattern) 현상(Develop ... 이 끊어지는 PR을 positive PR 노광된 부분의 polymer 결합사슬이 더욱 단단해지는 PR을 negative PR3. 저온건조(Soft Bake)도포 된 감광막에 함유 ... 고 접착력을 약화 건식 과정은 산소 플라즈마 시스템 안에서 감광제를 산화시켜(태워서) 제거{nameOfApplication=Show}

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| 리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.11.09

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혈당정량

어 원심침강시키거나 저온(약 0℃)에 방치해 두면 위쪽에는 혈장이, 아래쪽에는 유형성분으로 나누어진다. 이 경우 혈장이 차지하는 비율은 남녀에 따라 약간의 차이가 있으나 약 55%이 ... 하여 3000rpm으로 약 10분간 원심 침전한다.④ 자연 정지된 후에 원심분리기에서 blood를 꺼낸 후 pipet으로 plasma를 다른 tube에 옮 겨담는다.⑤ 보통 plasma ... (plasma) - 혈액에서 유형성분을 제외한 액세성분으로, 물 90%와 혈장 단백질 9%, 무기염류 1%로 구성2) 기구 micro pipet① screw cap이 있는 3개의 tube

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| 리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.19

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No.61 탄소강의 열처리에 따른 미세조직변화와 강도 변화

), 염욕침탄(Salt Bath Carburizing), 가스침탄(GasCarburizing), 플라즈마침탄(Plasma Carburizing), 진공침탄(VaccumCarbur ... 은 내마모성을 위하여 150∼200℃의 저온템퍼링을 행한다.(2) 기계구조용 합금강기계구조용합금강의 탄화물은 M3C형의 複合탄화물이므로 오스테나이트에 고용하기쉽다. 여기서 M은 금속 ... 처리가 행하여지고 있다. 그러나 SCr계와 같이 템퍼링연화저항성이 작은 강종은 약간 낮은 온도에서 템퍼링한다. 침탄용강은 역시 150∼200℃의저온템퍼링을 행한다. 일반적으로 저온

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| 리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.12.24

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MEMS 사례발표(DLP)

의 mask에 SiO2를 플라즈마로 증착하는 plasma-etched를 이용하여 가공된다. 이후의 포장공정에서, 희생된 layer는 plasma-ashed 로 air gap을 형성 ... (Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), 유기 EL(Organic Electro Luminescent Display), VFD ... , TV,캠코더 뷰파인더 등고온 다결정 실리콘(HTPS) TFT-LCD저온 다결정 실리콘(LTPS) TFT-LCD다결정 실리콘(x-Si)MIM(Metal-Insulator

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| 리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.07.06

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절삭가공 정리

을 무르게 함PVD 코팅 - 모든 표면에 고르게 증착되지 않고 방향성을 가짐 : 절인의 날카로운 상태 유지 가능Plasma CVD 코팅 - 비교적 저온에서 증착 가능- CVD(화학 ... 이 저하된다.2. 코팅 방법은 아래와 같이 구분할 수 있으며, 보통은 500℃ 이하의 저온에서 가능한 PVD 코팅이 주로 사용된다.CVD 코팅 - 고온으로 인해 열처리된 고속도강 ... 절삭 특성이 우수하고, 크레이터 마모에 강함 연속형 칩이 발생하는 강재,합금 주철 등에 주로 사용2. K 계열: 저온 강도가 강하고 여유면 마모에 강함 고온에 약한 단점 불연속형칩

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03

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[전자재료]CVD란?

하거나, 복잡한 성분의 화합물 반도체 제작, 텅스텐 이미터 소자의 제작등이 응용 되고 있다.최근에는 전기 방전에 의해 형성된 플라즈마를 이용한 저온도 증착법인 플라즈마 화학기상증착 방법과 같

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.01.08

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금속의 열처리

O31000℃피막온도CVD고온CVD저온CVD광CVD플라즈마CVD열CVDCVD( Chemical Vapor Depositon) : 반응성 가스 간에 화학반응을 일으켜 생성 되는 고체 ... ~600200~600300~600처리 온도(℃)염욕 중의 열화학 반응열화학 반응열화학 반응열화학 반응플라즈마 반응플라즈마 반응처리 방법※범례 ; ◎ : 탁월 ○ : 우수 △ : 보통Vw}

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| 리포트 | 50페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.10.29

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ion plating (이온도금)

1. Ion Plating(이온 도금)의 정의증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스퍼터와 같은 고에너지를 가지고 도금이 되므로, 도금속도도 크고, 밀착도 좋 ... 은 피막을 석출시키고자 할 경우에 많이 이용된다.이온 도금 ⇒ 직류 이온화, 고주파 이온화, 복합법; 증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스파터와 같은 고에너지를 가지 ... )내에 아르곤 등의 가스를 주입하여 약 10 torr의 고진공 상태에서 플라즈마를 일으켜, 증착물질과 가스를 이온화하여 증착될 물체에 높은 에너지를 가지고 증착하게 하는 일종

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| 리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.09

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초전도 재료

전자 플라즈마를 일정한 공간 내 가두기 위해 강자계 필요Company Logo Josephson 효과 1 직류 Josephson 효과 2 교류 Josephson 효과Company ... 하고 해명Company Logo 고온 초전도체 • 저온 초전도 - 극히 낮은 임계온도 (max 23K – Nb3Ge) - 냉매로서 액체헬륨이 필요 헬륨은 고가로서 자원이 한정 ( 액체

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| 리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.15

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흡착실험결과

AdsorptionResult◎ 결과1) 유도 결합 플라즈마 (ICP : Inductively Coupled Plasma)① 개 요ICP는 아르곤가스를 플라스마 가스로 사용 ... 도가 가장 높은 영역은 중심축보다 약간 바깥쪽(2～4㎜)에 위치한다. 이와 같은 ICP 의 구조는 중심에 저온, 저전자 밀도의 영역이 형성되어 도너츠 형태로 되는데 이 도 너츠 ... 성이 보고된 이AdsorptionResult래 이 분야는 원자 분석에서 가장 중요한 자리를 차지하게 되었다.ICP(Inductively Coupled Plasma)란 고주파 유도

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.08

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이온 플레팅_ION PLATING

입자를 이온화시키는 것은 일단 아르곤 가스등을 플라즈마 화 시키고, 이 플라즈마 층을증발입자가 통과하는 동안 전자에 얻어맞고+이온으로 되어 음극에 이끌려 충돌하게 된다.위의 그림 ... 대전류의 열전자를 달리게 해 금속 및 도입가스의 플라즈마 영역을 형성시켜 더욱 위쪽의 기판에 화합물을 증착시키는 것이다. Ti를 용융하고 N₂가스를 도입하면 기판상에 TiN피막 ... 을 생성할 수가 있다.그림2는 저전압 대전류형 전자총을 이용함으로서 금속을 용해 증발시킴과 동시에 플라즈마 영역을 강력하게 형성시키려고 하는 것이다. 더욱이 기판을 플라즈마 영역

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| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.24

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[재료과학]전기도금실험(도금의 종류)

된다.[2]건식도금①PVD- 진공 증착 ⇒ 저항가열, 유도가열, 전자빔 가열, 플라즈마빔 가열; 증발되는 가스가 많으므로 도금속도는 크나, 증발입자가 가자고 있는 에너지가 열에너지뿐이어 ... 이 튀어 나오는 원리 이용, 시간이 오래 걸림, 반도체 생산시 주로 이용. (직류, 고주파, 반응성 법); 각 입자가 열에너지와 플라즈마에 의해 이온화가 된 가스가 음극에 이끌리 ... , 스퍼터 입자의 수가 적으므로, 도금속도가 느리다.- 이온 도금 ⇒ 직류 이온화, 고주파 이온화, 복합법; 증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스파터와 같은 고에너지

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.07

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[화학공학]화학공학의 유망 분야- 수소 에너지

등)을 대체하는 데는 한계가 있음.⑸수소의 제조기술 개발 내용?물로부터수소제조◆전기분해◆저온열분해◆광촉매◆바이오?화석연료로부처수소제조◆수증기개질◆플라즈마개질◆고온열분해?수소정제제조 ... 로부터 수소제조(세계적으로 연구단계임전기분해(SPE, 태양광, 풍력 등 대체전원이용 등)저온열분해(산화물, ,유황화합물, 염화물, 불화물, 요드화물등)광 촉 매(금속산화물 ... , 페롭스카으트, 제올라이트 등)바 이 오(광합성 직·간접, 협기발효, 과합성 발효 등)화석연료로부터 수소제조수증기개질(상용화 되어 있음)플라즈마 개질(반응기, 플랜트 건설) → 미국 상용

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.14

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[반도체공학]플라즈마

를 공급해줌으로써 가능해졌다.4. 플라즈마의 application- 플라즈마는 수만도 정도의 온도와 109 ~ 1010 /㎤의 밀도를 갖는 저온 글로우 방전 플라즈마와 수천만도 이상 ... 의 온도와 1013 ~ 1014 /㎤ 의 밀도를 갖는 초고온 핵융합 플라즈마로 크게 구별할 수 있다. 이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 ... 공정에서 플라즈마 식각(plasma etch) 및 증착 (PECVD : Plasma Enhanceed Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면 처리

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.23

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[공학]기초 반도체 공정

석영이 음극표적재료로 사용 plasma deposition 250 ℃ T 600 ℃ : SiH4 ~400 ℃ SiO2 for passivation doped SiO2 by B2H6 ... and applications◇ Ion Implant의 특징 불순물 주입량 조절 분포모양 조절 측면 퍼짐 감소 저온공정 균일성 간편한 불순물 공급원 . . . ◎ 불순물 주입량 조절 ... plasma can be produced from a gas if enough energy is added to cause the electrically neutral atoms of

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 161페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.30

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플라즈마를 이용한 표면경화

◆ 플라즈마를 이용한 표면경화 ◆일반적인 금속재료의 표면경화 처리법은 표면에 경질의 물질을 피복하는 코팅법과, 침탄법이나 질화법과같이 금속표면으로부터 다른 원소를 확산침투 ... 시켜 재료표면 그 자체를 경화시키는 확산침투법으로(PDT) 대별할 수 있다.Plasma Diffusion Treatment(PDT)란 plasma의 높은 에너지를 이용하여 C, N, B등 ... 의 원소를 금속이나 강의 표면에 확산.침투시켜 내마모, 내식성등을 부여하는 강의 표면경화 처리 수단으로서 thermochemical treatment라 부르기도 한다.1. 플라즈마

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.21

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Gas 절단, Plasma 절단이란

절단기(3.3) 산소창3. 프라즈마(Plasma) 절단3.1 개요일반적으로 물질은 저온에서는 고체이고, 온도가 상승함에 따라 액체, 기체로 변해간다. 여기서 더 한층 온도가 상승 ... 을 이용한 산소가스 절단, 프라즈마(Plasma) 절단 등이 있다. 본 장에서는 일반적으로 가장 많이 사용되고 있는 가스절단과 프라즈마 절단에 대하여 주로 기술 한다.2. 가스(Gas ... 하게 되면 기체원자는 격렬한 열운동으로 이온과 전자로 분리되며 이 기체는 전도성을 띠게 된다. 이와 같이 이온과 전자가 혼합되어 전도성을 띤 가스를 프라즈마(Plasma)라 한다

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.03.04

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