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"저온플라즈마" 검색결과 601-620 / 1,028건

  • 자료 표지
    박막 재료의 표면처리 및 PR 제거
    plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라 즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔 ... 과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용5. 실험이론(1) 플라즈마(Plasma)란?1) 플라즈마의 정의? 이온화한 기체? 물질의 제 4 상태? 번개, 아크, 네온사인, 태양, 오 ... p서 플라즈마 식각(plasma etch) 및 증착 (PECVD : Plasma Enhanceed Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면 처리
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.27
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  • 자료 표지
    박막의 표면처리 및 식각 실험 예비보고사
    하는 플라즈마(Cold Plasma)라 한다. 따라서 높은 압력에서라도 열적 평형이 형성되기 전의 짧은 펄스 플라즈마가 반복해서 생성되는 방전모드의 경우에도 저온 플라즈마의 형성 ... 모양 관찰 - 광학 현미경 사용/5./실험이론/(1)플라즈마(Plasma)의 정의와 이용 분야①플라즈마의 정의랭뮤어에 의해 처음 불리워진 ‘플라즈마’는 혈장(Blood Plasma ... 이 가능하다. 저온 플라즈마는 공업적으로 가장 널리 이용되고 있다.②플라즈마의 이용분야플라즈마에너지물질,재료환경, 우주열전자발전아크용접플라즈마제련MHD발전방전가공도시쓰레기 처리핵융합발전
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.04
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  • 자료 표지
    증착법, 스퍼터링, 박막 공정 (THIN FILM PROCESS)의 기초
    에 고 에너지의 입자를 표면원자와 충돌시켜 고체 표면의 원자나 분자를 표면으로부터 제거하는 현상. 글로우 방전과 플라즈마 개념의 이해가 필요함. 2. 플라즈마와 글로우 방전 ... 플라즈마: 양전하(gas+)와 음전하(e-)가 같은 수로 이온화된 가스 플라즈마를 생성, 유지하는 것은 글로우 방전임. 글로우 방전은 DC 또는 AC(RF systems)에 의해 이루 ... 어 짐.플라즈마 생성 과정 전압이 가해지지 않았을 때 가스는 중립의 원자 상태로 존재함. 전압이 가해지면, 자유전자 가 가속되며 원자와 탄성 충돌함. 전압을 증가시키면, 전자는 가스
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    | 리포트 | 41페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.10.17 | 수정일 2014.08.27
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  • 자료 표지
    유도결합플라즈마 발광법(Inductively Coupled Plasma Emission Spectrometer)
    유도결합플라즈마 발광법(Inductively Coupled Plasma Emission Spectrometer)기기분석○원리 및 적용범위○시료를 고주파 유도코일에 의하여 형성 ... 된 아르곤 플라즈마에 도입하여 6,000~8,000K 에서 여기 된 원자가 바닥상태로 이동할 때 방출하는 발광선 및 발광강도를 측정하여 원소의 정성 및 정량분석에 이용하는 방법.[개요 ... 1]ICP는 아르곤 가스를 플라즈마 가스로 사용하여 수정 발진식 고주파발생기로부터 발생된 주파수 27.13 MH 영역에서 유도코일에 의하여 플라즈마를 발생시킨다. ICP의 토치
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    | 리포트 | 9페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.04.04 | 수정일 2023.04.14
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  • 자료 표지
    산화물반도체,Oxide Semiconductor
    IGZO Channel이Damage를 입는 것을 방지하기 위한 SiOx를 Etch-stopper로 사용한연구결과와 Ar plasma treatment를 이용하여 특성을 향상시킨 연구 ... 을 나타내고 자외선을 흡수하며, 고온 증착의 magnetron-sputtered 박막의 경우 최대 5O hm/square의 저저항 박막 형성이 가능하지만 저온증착의 경우 저항이 증가 ... 유기박막에의 plasma damage를 해결하여야 하며 ITO자체로는 유기박막에의 전자주입을 위한 에너지준위 특성이 맞지 않으므로 LiF, BaF2 등의 초박막과 얇은 Ag
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    | 리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.10.18
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  • 자료 표지
    LCD와PDP의 장단점
    에 저온동작(-30∼-40℃)에 어려움이 있다.2. LCD의 용도 및 분류LCD는 크게 디스플레이 형태와 구동방식에 따라 분류될 수 있다. 디스플레이 형태에 따라서 투사형 LCD ... 특징플라즈마 디스플레이는 기체방전시에 생기는 플라즈마로부터 빛을 문자 그래픽을 소자이다. 플라즈마 디스플레이는 기체 방전 현상을 이용한 표시소자이므로 기체 방전 ... 의 공간에 플라즈마를 형성하는 방법을 채택하기 때문이다.PDP의 특징은 다음과 같다.1) 매우 강한 비선형성가스 방전은 전극간에 전압이 인가되더라도 방전 개시 전압 이하의 인가 전압
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.26
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  • 자료 표지
    cvd pvd
    에 의한 Plasma 에너지, 레이저 또는 자외선의 광에너지가 이용되며 기판의 가열에 의하여 분해된 원자나 분자의 반응을 촉진하거나 형성된 박막의 물리적 성질을 조절하기도 한다 ... 경우에도 Plasma 산화, 질화 기술이 사용된다고 생각한다.③ PE CVD (Plasma Enhancement Chemical Vapor Deposition)반응 ... 로(Chamber)의 진공도가 저압이며, 저열에 의한 Energy와 R.F. 전력에 의한 Plasma로 반응을 유도.▷ PE CVD 개발 동향 : PE CVD 장치는 gas 종류에 의해서 층 간
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03
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  • 자료 표지
    생명체의 탄생조건은 무엇인가?
    (미립자)로 구성되는 밀도가 높은 영역을 말하는 것이다.이 영역에 규산염 등의 광물 입자나 먼지가 들어가면, -260℃라는 극저온이기 때문에 먼지는 얼어 버리고, 주위에 일산화탄소 ... 는 초고온의 충돌 증발운 안에서는 물질은 원자 또는 플라즈마 상태까지 분해되어 다양한 화학 반응이 진행된다.시안화물(CN)이나 아세틸렌화물 등의 분자가 형성되리라고 여겨진다.충돌
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    | 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.29
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  • 자료 표지
    경유자동차 후처리기술 현황과 전망
    시킴으로서 얻게되는 non-thermal plasma(저온플라즈마)를 주로 이용하는 자동차용 후처리장치 개발 연구가 활발하다. 플라즈마는 NOx 저감기술로 대부분 응용되고 있 ... 가 낮을 경우에 전기히터를 가열하여 복사열로서 PM을 재생하는 복합방식 DPF가 개발되고 있다.플라즈마방식고전압의 전기적인 방전(discharge)으로 전자에 에너지를 가하여 활성화 ... 지만 자동차에서는 PM 저감을 위한 연구가 활발하다. 플라즈마방식은 크게 두가지 방법이 연구되고 있다. 기존의 매연포집 필터를 사용하지 않고 PM을 플라즈마로 직접 태워 재생하는 방법
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    | 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.04
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  • 자료 표지
    Wafer Cleaning & oxidaton
    을 이용하는 방법, GAS PLASMA 처리방법, UV O3 조사법, 물리적으로 제거하는 BRUSH을 이용하는 SCRUBBER방법 등이 있다.① Cleaning 원리 및 제거되는 물질 ... 하는 SCRUBBER 방법, GAS PLASMA 처리나 UV O3 조사 등의 DRY CLEANING 방법 등이 있다.참고 : cleaning에서 적용하는 chemical(1) 무기 ... 들이 그대로 웨이퍼에 도달하여 박막을 형성하며 기판의 가열이 불필요하다.250~260°C사일레인(silane, SiH4)의 산화에 의한 증착방법- 보통 저온화학 기상층작이라 부름.
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    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.26
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  • 자료 표지
    기기분석, XRD, ICP, SEM, TEM, BET
    Plasma Mass Spectrometer ) 분석기중 하나로 유기 , 무기 분석 중 주로 무기 분석에 해당함 . 유도 쌍결합 플라즈마 질량 분광계 (ICP-MS).이 론 (ICP ... ) II. 특징 플라스마 가스를 사용하여 유도코일에 의하여 플라즈마 발생 . ICP 의 구조는 중심에 저온 , 저전자 밀도의 영역이 형성되어 도너츠 형태로 되는데 이 도너츠 모양의 구조
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    | 리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.02
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  • 자료 표지
    TFT와 FET 그리고 둘의 차이점
    에 400℃ 이하의 저온 공정이 요구되는 TFT-LCD 공정에서 주로 사용된다. 증착 메카니즘은 플라즈마에 의해서 여기된 전자가 중성 상태로 유입된 기체 화합물과 충돌하여 기체 화합물 ... 에 쓰이는 Magnetron Sputtering은 DC 플라즈마를 이용하며, Source Target의 둘레와 뒤쪽에 자석을 설치한 다이오드 구조에서 발생하는 자계(Magnetic ... Field)가 Ar을 여기 시키는데 방해가 되는 2차 전자(Secondary Electron)를 격리시키며, 플라즈마 조정을 용이하게 하여 증착 효율을 높일 수 있다.반응성 스퍼터링
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    | 리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.04.06
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  • 자료 표지
    OLED 문제점 보완을 통한 미래형 OLED 모색
    부드러운 화면 구현 시야각 협소 보완 -170°정도의 광 시야각을 가진 패널로 인한 측면에서의 화면 왜곡 보완PDP vs LCDPDP 란?방전에 의한 플라즈마 생성을 통한 발광을 이용 ... 하는 디스플레이PDP 원리-전면과 배면유리 및 격벽에 의해 밀봉된 가스에다 음ㆍ양극에 의해 전압을 가해 플라즈마 생성에 따른 자외선이 형광체에 부딪쳐 나오는 가시광선을 이용(c ... 하여 문제 보완 (삼성) -기판에 금속촉매를 도포 후, 고속 열처리함으로써 저온폴리실리콘막 형성 -고가의 레이저장비 사용하지 않는 기술 -설비 투자비 1/4 , 유지비 1/10
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    | 리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.09 | 수정일 2021.11.24
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  • 자료 표지
    CVD&PVD
    기 안으로 주입되면 열이나 플라즈마 등으로부터 에너지를 받게 되어 분해되는데, 이때 원하는 물질이 기판 위에 도달하여 막을 형성하는 기술이다. 화학적 기상 성장을 이용하는 박막 ... 을 도입하였다. PECVD는 Chemical Vapor를 진공상태의 챔버에 주입하고, 정장을 형성하여 플라즈마를 유도하는 장치로 구성되는데, 정장에 의해 높은 에너지를 얻은 전자 ... 한 에너지원으로 이용하고 있는 반면에 PECVD는 플라스틱을 이용함으로써 그 만큼의 열에너지를 줄일 수 있게 되어 저온에서 박막을 형성 할 수 있다. 이러한 장점 때문에 SiO2
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    | 리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.01
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  • 자료 표지
    탄소나노튜브에 대한 PPT
    SWNT using Co, Ni powder High quality탄소나노튜브 - 합성방법3) 플라즈마 화학기상증착법 (Plasma Enhanced Chemical Vapor ... nm 수준의 단중벽 나노튜브 합성 1996 Smalley 레이저 증착법 SWNT를 고수율로 성장 1998 Ren 플라즈마 화학기상증착법 Glass위에 고순도의 탄소나노튜브 합성탄소 ... Deposition)저온 합성 가능 균일 성장 어려움탄소나노튜브 - 합성방법4) 열 화학기상증착법 (Thermal Chemical Vapor Deposition)High quality
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    | 리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.14
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  • 자료 표지
    CNT (carbon nanotube)의 특성과 제품 개발 연구
    로 혼합시킨 graphite를 target으로 사용하면, 균일한 단일벽 탄소(rope)의 형태로 존재한다. ) 레이저 증착법2.3.3플라즈마 화학 증착법 (Plasma Enhanced ... ???????????????????11p 플라즈마 화학 증착법 ... 하여 graphite를 기화시킨다. 이때 반응오븐은 헬륨이나 아르곤 가스를 채워 넣어 압력을 500Torr정도로 유지한다. graphite target에서 기화된 탄소 클러스터들은 저온
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    | 리포트 | 29페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.01.01
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  • 자료 표지
    이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)
    이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)1절. 이온침탄1. 이온침탄이란이온침탄은 플라즈마 침탄이라고도 하며, 약 900이상의 고온이 필요하기 때문에 외부 히터로서 가열된다. 이 ... 여 플라즈마를 발생시킨다. 이때 글로우 방전에 의해 분위기 중의 탄소는 이온화되면서 큰 운동 에너지를 가진 이온([C]+)으로 되며, 이 탄소 이온이 처리물 표면에 충돌하여 내부로 침투 ... 하게 되면 침탄이 되는 것이다. 최근에는 반도체 제조 기술에 이온 주입이 응용되고 있다. 이처럼 플라즈마의 이용 분야는 무한한 가능성이 있다.2. 이온침탄의 특징① 장치 및 탄소농
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.09.15
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  • 자료 표지
    소세지 결과 레포트
    도록 하고 있다.★ 소세지의 훈연방법- 냉훈법 : 주로 발효 소시지나 생햄의 훈연시 이용되는 방법으로 15~30℃의 낮은 온도에서 훈연하며 별도의 가열처리 공정이 없다. 저온으로 장기간 ... - 혈장단백(Blood plasma protein)혈장은 소나 돼지의 혈액으로부터 적혈구, 백혈구, 혈소판 등의 혈액 세포를 원심 분리하여 제거한 후 얻어지는데, 이때 혈액이 응고
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.11.28
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  • 자료 표지
    ESD란?, 수소경제와 SOFC (고체산화물연료전지)에 대해서.
    )는 종래의 다른 연료전지에 비해 복잡한 외부 개질 시스템이 필요 없으며, 백금 등의 귀금속 전극촉매를 사용하지 않는다. 또한, 액상전해질에 의한 부식문제가 발생하지 않는 등 저온 ... 가지 기술적인 문제점을 갖고 있다. 또한 선진국에서 실증중인 발전시스템의 경우 전극, 전해질, 연결재의 제조가 EVD, 플라즈마분사법 등 고가의 건식공정으로 이루어져 있어 실용
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.03.29
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  • 자료 표지
    이온 플래팅
    the cathode sheath (Vp-Vc)- Rf : Vp는 anode의 면적과 anode에 걸린 전압에 관련된 값.플라즈마 전위는 일차적으로 양극의 전위와 양극의 접촉면 ... 적에 의존한다. 큰 접촉면적을 가진 양극은 음극보다 많은 양의 전자 전류를 플라즈마로부터 받게 되므로 플라즈마 전위는 양극보다 양(+)으로 높아진다. 반대로, 작은 접촉면적을 가진 ... 양극은 적은 양의 전자를 받게 되므로 anode sheath가 부족한 전자 전류를 보충하기 위해 플라즈마 전위를 양극보다 낮춘다.또한 sheath의 간격(L)은 cathode s
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.27
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2025년 11월 29일 토요일
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